| 本科 | 選択・必修 | 開設時期 | 単位数 | 授業形態 | 担 当 | |||
| 情報電子 | 必修 | 3年後 | 1 | 講義 | 高山泰博 | |||
| 【授業の概要】 知的財産権は、産業財産権と著作権からなる。授業では３つのことを学ぶ。 （１）特許権や商標権などの産業財産権に関して、技術者として必要な知識を習得する。 （２）著作権は日常生活や学校生活（レポート・卒業論文の作成）でも身近なものであり、著作権の概要と制限について学ぶ。 （３）特許出願を想定し、アイデアの創出、類似技術の調査、特許明細書・図面を作成の一連の流れを学ぶ。 | ||||||||
| 【授業の進め方】 講義を２部に分ける。後期中間試験までの第１部は、講義を主体に授業を進める。板書や配布資料の内容を自分でまとめる復習が必須である。試験以後の第２部は、特許出願を想定して、アイデアを練り、明細書を作成する演習を行い、創造演習(４年次)・創造製作(５年次)の準備を行う。 | ||||||||
| 【授業計画】 | 【授業項目】 | 【内 容】 | ||||||
| 1 回 | 知的財産権 | 知的財産権の概要、必要性について学ぶ。 |
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| 2 回 | 特許権、実用新案権 | 特許制度、保護期間などについて学ぶ。 | ||||||
| 3 回 | 意匠権、商標権 | 特許に関連する権利としてデザインやブランドなどの権利について学ぶ。 | ||||||
| 4 回 | 著作権の基礎（１） | 著作権制度の概要、著作物・二次著作物などについて学ぶ。 | ||||||
| 5 回 | 著作権の基礎（２） | 権利の構成、著作隣接権などについて学ぶ。 | ||||||
| 6 回 | 身近な生活と著作権 | 著作権の制限、私的利用について学ぶ。 | ||||||
| 7 回 | ITと知的財産権 | フリーソフトウェア、オープンソフトウェア、ライセンスの種類（GPLなど）について学ぶ。 | ||||||
| 8 回 | 中間試験 | 知的財産権、著作権についての理解度を問う。 | ||||||
| 9 回 | 演習（１） | アイデア創出法などの特許作成のための準備を行う。 | ||||||
| 10 回 | 企業と特許 | 企業等における特許の重要性について学ぶ。 | ||||||
| 11 回 | 演習（２） | グループ単位でアイデアを練り、アイデアシートを作成する。 | ||||||
| 12 回 | 演習（３） | 創出したアイデアについて類似技術や特許等の調査を行う。 | ||||||
| 13 回 | 演習（３） | システム構成図、機能構成図、動作の流れ図を作成する。 | ||||||
| 14 回 | 演習（４） | 特許明細書および図面を作成する。 | ||||||
| 期末試験 | 実施しない。 | |||||||
| 15 回 | 答案返却など | 特許明細書、図面を提出する。 | ||||||
| 【到達目標】 | 産業財産権、著作権とは何かを理解し自分で説明できる。特許の作成に必要な知識を身につける。 | 【徳山高専学習・教育目標】 | C2 | 【JABEE基準】 | ||||
| 【評価法】 | 試験（６０％）、レポート（授業まとめ、特許のアイデアシート・システム構成図・明細書・図面等）（４０%）で評価する。 | |||||||
| 【テキスト】 | 特許庁：「産業財産権標準テキスト」（特許編・意匠編） 文化庁：「著作権テキスト」 | |||||||
| 【関連科目】 | 創造演習（４年）、創造製作（５年）、卒業研究（５年） | |||||||